真空蒸餾
精鉍中還含有的微量雜質，可分為易揮發性雜質與難揮發性雜質兩類。易揮發性雜質可用真空加熱法除去，難揮發性雜質可用真空蒸餾法除去。
真空過濾在垂直石英管內進行，在真空度為0.1333帕下，溫度1000℃時加熱4小時，使熔融金屬在真空下通過2毫米窄孔，以除去表面的氧化膜，真空過濾后，可除去精鉍中的銻。
經真空過濾的鉍裝在石英管內，溫度控制在950～1050℃，真空度保持0.1333帕，進行真空蒸餾，在上述條件下鉍的蒸氣壓為106.7～399.97帕，鉍的蒸發率達85%，蒸餾時間2～6小肘。通過真空蒸餾，蒸餾殘渣中富集了鎳、鉬，銀、銅、錳等雜質，餾出物即為五九商純鉍，可用于半導體工業。
由于鉛與鉍的飽和蒸氣壓較接近，所以甩蒸餾法不能滿足除鉛要求。但是氯化鉛的自由焓較氯化鉍的自由焓更負，即鉛的氯化物比鉍的氯化物更穩定，所以常先采用氯化法除鉛，再用真空蒸餾除去銀等難揮發雜質。
降低熔融鉍中氯化物的含量可采用氨氣沖洗法，或采用氯化物真空蒸餾，將真空度控制在0.6666帕，溫度650℃，此時BiCl3與PbCl2優先蒸發，而與金屬鉍分離。
